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    半導體制程(支撐)材料

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    三氟碘甲烷 CAS號:2314-97-8 半導體蝕刻材料

    更新時間:2020-07-04 點擊數:2209

    三氟碘甲烷,又稱三氟甲基碘,分子式為CF3I,分子量為195.91。三氟碘甲烷為無色無味氣體,無毒、阻燃、油溶性和材料相容性好,是傳統氟利昂制冷劑的替代品之一,具有滅火效率高,安全性能好,經濟效益高等特點。三氟碘甲烷作為半導體刻蝕氣體,與同種刻蝕氣體CF4、C4F6相比,蝕刻時具有更高的選擇性和高深寬比。

    產品指標

    產品用途:

    三氟碘甲烷可用作半導體刻蝕氣體、電氣設備絕緣與滅弧氣體、滅火劑、制冷劑等。此外,三氟碘甲烷還能與有機金屬試劑作用,是有機合成中引入氟代甲基的重要含氟中間體,可廣泛應用于有機合成、生物化學、農藥、醫藥、表面活性劑和染料等領域。        

    包裝、貯存:

    三氟碘甲烷充裝在鋼質無縫氣瓶中,鋼瓶容積分別為10L、47L、400 L,具體包裝規格可根據用戶需求定制更改。三氟碘甲烷儲存干陰涼、干燥、通風良好的庫房,遠離火種、熱源。庫溫不宜超過30℃,儲區應備有泄漏應急處理設備。



    備案號:魯ICP備17016486號-5

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